Journal of Micro-Nanolithography MEMS and MOEMS

期刊基本信息

期刊名称：Journal of Micro-Nanolithography MEMS and MOEMS
期刊级别： Scopus (CiteScore)
期刊ISSN：1932-5150
期刊EISSN：1932-5134
简称：J MICRO-NANOLITH MEM
实时影响因子：截止2023年6月16日：1.808
h-index：37
2024-2025自引率：N.A.
期刊官方网站：期刊官方网站
期刊投稿网址：https://jm3.msubmit.net/cgi-bin/main.plex
是否OA开放访问：No
出版商：SPIE
出版年份：2007

Journal of Micro-Nanolithography MEMS and MOEMS

Scopus (CiteScore)

期刊介绍

The Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS (JM3) publishes peer-reviewed papers on the science, development, and practice of lithographic, fabrication, packaging, and integration technologies necessary to address the needs of the electronics, microelectromechanical systems, micro-optoelectromechanical systems, and photonics industries.

投稿要求

通讯方式：SPIE-SOC PHOTOPTICAL INSTRUMENTATION ENGINEERS, 1000 20TH ST, PO BOX 10, BELLINGHAM, USA, WA, 98225
涉及的研究方向：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC-NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY
出版国家或地区：UNITED STATES
出版语言：English
PubMed Central (PMC)链接：http://www.ncbi.nlm.nih.gov/nlmcatalog?term=1932-5150%5BISSN%5D
平均录用比例：容易

CITESCORE

CiteScore

SJR

SNIP

CiteScore排名

3.40

0.393

1.723

学科	分区	排名	百分位
大类：Engineering 小类：Mechanical Engineering	Q2	299 / 672	55%
大类：Engineering 小类：Electrical and Electronic Engineering	Q2	389 / 797	51%
大类：Engineering 小类：Atomic and Molecular Physics, and Optics	Q3	113 / 224	49%
大类：Engineering 小类：Condensed Matter Physics	Q3	223 / 434	48%
大类：Engineering 小类：Electronic, Optical and Magnetic Materials	Q3	155 / 284	45%

WOS期刊JCR分区

WOS分区等级：0区

暂无按学科分区信息

期刊分区表预警名单

2025年03月发布的2025版：不在预警名单中

2024年02月发布的2024版：不在预警名单中

2023年01月发布的2023版：不在预警名单中

2021年12月发布的2021版：不在预警名单中

2020年12月发布的2020版：不在预警名单中

中科院2025年3月升级版

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综述期刊

物理与天体物理 3区

OPTICS 光学	2区4区3区
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：电子与电气	4区4区4区
MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科学：综合	2区2区4区
NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 纳米科技	4区3区4区

否

中科院2023年12月旧的升级版